Bơm hút chân không khô Edwards iXH 100
Edwards iXH 100 là dòng máy bơm khô mới được chế tạo cho sản xuất thân thiện với môi trường và xử lý các quy trình hóa học khắc nghiệt. Sử dụng năng lượng rất thấp, cơ chế roost hiệu quả đã được phát triển để giảm đáng kể công suất đầu vào xuống còn 1,3 kW, thấp hơn 60% so với thế hệ máy bơm khô trước đây, giảm tác động môi trường và giảm chi phí sở hữu. Công nghệ rào cản khí và cải tiến thiết kế nhiệt cho phép khả năng chống ăn mòn cao gấp bốn lần so với sản phẩm iH Series. Các tính năng xử lý bột tiên tiến có nghĩa là iXH sẽ mang lại độ tin cậy tối đa và tuổi thọ bơm kéo dài cho các quy trình ăn mòn nhiều lớp và giảm mức tiêu thụ điện năng cho các quy trình CVD, đặc biệt là với Hóa chất HARSH.
Máy bơm sê-ri Edwards iXH 100 được thiết kế nhỏ gọn và trọng lượng nhẹ, với tiếng ồn và độ rung đặc biệt thấp, làm cho iXH trở thành máy bơm khô hóa chất linh hoạt nhất trong dòng sản phẩm Edwards. iXH sẽ thay đổi kỳ vọng của bạn về công nghệ bơm chân không khô, mang lại lợi ích thực sự và tăng thời gian hoạt động, với tác động môi trường tối thiểu. Máy bơm iXH được thiết kế để sử dụng trong hầu hết các quy trình bán dẫn đồng thời giúp giảm đáng kể công suất đầu vào.
Tính năng và lợi ích iXH100
Chủ yếu cho các ứng dụng hóa học khắc nghiệt.
Lưu lượng 100 m3/h-1 (59 CFM)
Độ chân không tối đa 1,5 X 10-2 Torr
Ít phải bảo trì phòng ngừa
Chỉ có máy bơm chính ( Không có bơm tăng áp )
Ống nước nối nhanh 3/8 inch
Kết nối điện & nước
Hệ thống làm mát bằng nước SS
Mô-đun khí đa chế độ 44 slm
APPLICATIONS:
Load Lock
Transfer
Meteorology
Lithography
Physical Vapor Deposition PVD Process
Physical Vapor Deposition PVD Pre-clean
Rapid Thermal Anneal RTA
Strip/Ashing
Etching
Implant Source
High-Density Plasma Chemical Vapor Deposition HDP CVD
Rapid Thermal Processing RTP
Sub-Atmospheric Chemical Vapor Deposition SACVD
Tungsten Chemical Vapor Deposition WCVD
Modified Chemical-Vapor Deposition MCVD
Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition PECVD
Low Pressure Chemical Vapor Deposition LPCVD